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    • 雙靶直流磁控濺射鍍膜...
      雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
      單靶直流磁控濺射鍍膜...
      單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等
      帶過渡艙型雙靶磁控濺...
      本設備為雙靶磁濺射控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
      三英寸三靶磁控濺射鍍...
      三靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
    • 小型電動升降樣品臺蒸...
      本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,設備安裝有鎢絲籃蒸發源,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
      桌面型水冷樣品臺蒸發...
      本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,設備安裝有鎢絲籃蒸發源,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
      桌面型不銹鋼腔體蒸發...
      本產品為專為高真空設計的桌面型小型蒸發鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍
      桌面型熱蒸發鍍膜儀帶...
      本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀,可提供*大100A的鍍膜電流,*大蒸發溫度可達1800℃,能夠滿足各種常見金屬及部分非金屬的蒸鍍
    • 鋰電池專用卷對卷加熱...
      這種全自動卷對卷加熱涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
      實驗室鋰電池卷對卷加...
      這種全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的。刮刀采用全不銹鋼材質,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均勻性。該設備采用具有真空吸附功能的樣品臺,可以平穩的吸附樣品。同時涂布機具有底部加熱功能,加熱溫度可達120℃,在涂膜過程中實現烤膠功能,從而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
      鋰電池隔膜涂布機
      鋰電池隔膜涂布機,可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高,一致性穩定性好,廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、優異膠帶以及各種功能薄膜行業
      卷對卷流延涂布機
      卷對卷流延涂布機配有收放卷裝置,可用于銅箔或者鋁箔的連續涂膜,卷對卷流延涂布機上蓋配有紫外線固化燈,可以用于膜層的固化干燥
    • 紫外線光固化勻膠機
      紫外線光固化勻膠機配有紫外線光源,能夠實現對特殊膜料的固化功能,紫外線光固化勻膠機真空吸附固定,操作簡單,可自由取放。
      透明亞克力勻膠機帶滴...
      CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
      PP腔體八英寸勻膠機
      本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用PP工程材料,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,轉速能達到10000轉/分,有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制,可以預設勻膠曲線,大大簡化了使用過程降低了學習成本,十分適合實驗室選購。
      亞克力八英寸勻膠機
      本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,轉速能達到10000轉/分,有效的保障了成膜的均勻性。另外本儀器采用觸控屏控制,可以預設勻膠曲線,大大簡化了使用過程降低了學習成本,十分適合實驗室選購。
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      卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產品
      PECVD-R?旋轉...
      本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
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      PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積適用于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆。
      PECVD鍍膜儀
      CY-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件,可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
    • 桌面型二合一鍍膜儀
      本產品為二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備
      碳鎢蒸發等離子濺射復...
      碳鎢蒸發等離子濺射復合鍍膜儀可進行真空蒸碳、真空熱蒸發和等離子濺射,它也可以在高純氬氣的保護之下進行多種離子處理,碳鎢蒸發等離子濺射復合鍍膜儀采用機械泵和分子泵,實現高真空。
      雙靶磁控及蒸發復合鍍...
      雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。雙靶磁控及蒸發復合鍍膜儀可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。
      等離子濺射和蒸發二合...
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵,能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小,節省空間,能夠置于試驗臺上使用,一機多用,性價比突出,非常適合各大高校及研究機構選用。
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